FUJIFILM正式發售全新 FUJIFILM LTO Ultrium8資料流程磁帶
FUJIFILM於9月2日正式發售 FUJIFILM LTO Ultrium 8資料流程磁帶（以下簡稱LTO8），支援磁帶存儲介質 LTO Ultrium*1第8代標準，是備份和存檔大量資料的理想選擇。 LTO8使用具有優異磁性並能夠長期儲存的微粒子鋇鐵氧體（以下稱為BaFe）磁性材料，實現最大30 TB（未壓縮時為12TB）的記錄容量，是前代LTO7的兩倍。此外，資料傳輸速度最高可達750MB /秒（未壓縮時為360MB /秒），使用更便捷。該產品可以長時間、低成本、安全地存儲大量資料，滿足不斷增長的資料存儲需求。
最近由於超高畫質4K、8K視訊的出現、物聯網及ICT的發展以及使用AI進行大資料分析的普及，世界上的資料量正在爆炸式增長。其中，資料生成一段時間後不再需要頻繁調取的冷資料占所有資料的80％以上。近年來，包括冷資料在內，使用累積資料的需求迅速增長，長期、安全且廉價地存儲這些資料的需求也越來越多。磁帶不僅具有容量大、成本低、長期存儲的特點，而且可以將資料存儲保存於離線狀態下，因此網路攻擊導致資料損壞和丟失的風險很低。資料流程磁帶已常年為知名資料中心和研究機構服務。未來，它將有望活躍在大規模生成資料的尖端領域，例如使用AI和物聯網實現高品質和高效率生產的智慧製造、以及具有網際網路連接功能的智慧駕駛等產業。
FUJIFILM開發出具有優異磁性並能夠長久存儲資料的微粒子BaFe磁性材料。2011年，FUJIFILM製造出世界上第一個使用BaFe磁性材料的磁帶。2012年，首次發售LTO Ultrium標準下採用BaFe磁性材料的磁帶LTO6。克服了當時主流的金屬磁性材料容量增長的極限，FUJIFILM先於全球，首創使用BaFe磁性材料的磁帶，並一直引領市場至今。
此次全新發佈的LTO8同樣採用了BaFe磁性材料，升級了NANOCUBIC技術*2，將BaFe磁性材料進一步微粒子化並均勻地分散後塗布在磁帶表面。塗層平滑且厚度均勻。除了實現30 TB（未壓縮時為12 TB）的最大記錄容量，為LTO7的兩倍，還可以實現高達750 MB /秒（未壓縮時為360 MB /秒）的高速資料傳輸。此外，通過優化材料設計，實現了磁頭的高精度跟蹤和優異的運行耐久性。可以穩定地讀取和寫入資料，更可靠安心。
自2000年推出LTO1以來，FUJIFILM一直致力於開發高性能、高品質、大容量的磁帶。除磁帶外，FUJIFILM還提供資料存檔存儲系統，可根據訪問頻率在磁帶和HDD上存儲資料。將來，LTO8將與資料歸檔存儲系統結合使用，以滿足節能和大容量資料存儲的需求。
作為擁有世界最大份額*3的電腦磁帶製造商，FUJIFILM開發並提供滿足客戶需求、可信賴的高性能、高品質的記錄媒體及服務，致力於解決社會課題。
主要特點
（1）採用FUJIFILM獨創的BaFe磁性材料，實現最大30 TB的記錄容量
FUJIFILM獨特的NANOCUBIC技術*2再升級，將BaFe磁性材料進一步微粒子化並均勻地分散後塗布在磁帶表面，塗層平滑且厚度均勻；此外還提升了記錄密度，12.65mm的頻寬可記錄6,656條資料，從而實現了最大記錄容量30TB（未壓縮時為12TB），達到前代產品LTO7的兩倍。
（2）方便可靠
ヾ資料傳輸速度最高可達750MB /秒（未壓縮時為360MB /秒），使用更便捷。
ゝ高品質播放信號，低錯誤發生率。此外還優化了材料設計，實現了磁頭的高精度跟蹤和優異的運行耐久性，並且可以穩定地讀取和寫入資料，更可靠安心。
（3）可以低成本長期存儲大量資料，是冷存儲的理想選擇
與HDD相比，在存儲海量資料的應用方面，總擁有成本更低。
磁帶可將大量資料保存於離線狀態下，因系統故障、病毒感染、網路攻擊等導致的資料損壞和丟失的風險很低，能夠安全地存儲重要資料。
在日本電子資訊技術產業協會磁帶存儲專門委員會披露的加速評估測試中，已經證實磁帶可以穩定地存儲資料超過50年。
*1 Linear Tape-Open，LTO，LTO商標，Ultrium和Ultrium商標是Hewlett Packard
Enterprise公司、IBM公司以及Quantum公司在美國和其他國家的注冊商標。
*2FUJIFILM獨特的納米薄層塗布型磁帶技術，實現高密度磁記錄。由實現磁性材料微粒子化的納米粒子技術、均勻分散和排列細分磁性材料的納米分散技術和實現超薄層塗布的納米塗層技術組合而成
*3生產者份額。本公司調查。
新聞背景：
FUJIFILM集團：由FUJIFILM株式會社、富士施樂株式會社兩大事業公司組成，全球聯結子公司達279家，員工7.2萬餘名， 2018財年銷售總額約合 219.05億美元，營業利潤約合18.90億美元。
