日本Nikon是全球最大的光學儀器製造商之一。其主要產品有光學顯微鏡和照相機等,在科研、實驗和生產領域尤以光學顯微鏡知名。其光學顯微鏡包括生物顯微鏡(正立和倒置)、工業顯微鏡、體視顯微鏡,以及配套的顯微底片、數位照相裝置和相關軟體等完整系列。並且已拓展鐳射共聚焦顯微鏡和數位顯微鏡等最新技術產品。

Nikon在技術創新、產品功能、性能和產品系列的完整性等方面均處於領先地位,是光學顯微鏡的首選品牌

NIKON 顯微鏡原廠網址 http://nikon.com/products/instruments/index.htm

高級研究型正立顯微鏡 90i、80i
 

選配數位成像頭、螢光裝置及顯微數位照相裝置的90i


˙CFI60無限遠光學系統,筒鏡焦長200mm,物鏡齊焦距離60mm,工作距離最長,數值孔徑最大,螢光影像漂移最小,確保多種染色螢光體的影像重合和真實位置顯示。
˙複眼照明,視場和影像亮度最均勻。
˙消雜光螢光機構,螢光信噪比比一般螢光機構提高5倍。
˙可伸縮的載物台手柄,可作高位和低位元操作。移動載物台時,手柄位置不變,尤其方便操作。載物台調焦最小刻度1μm。
˙可選明場、暗場、相差、切趾相差、螢光、微分干涉相差及偏光觀察方法。
˙可選10X、12.5X及15X目鏡。
˙可配4X、10X、20X、40X、60X和100X物鏡,以及中間放大器作1.25X、1.5X和2X再放大。
˙雙目鏡筒或三目鏡筒。獨有適用於鐳射共聚焦、定量顯微光度測定、底片及數位照相的雙出口數位成像頭,後出口可作0.8-2X變倍。
配合智慧型物鏡轉換器、數位相機及軟體可作顯微觀察參數記錄,包括放大倍數、物鏡、濾光片等參數。
˙可配合數位、底片照相裝置及其他外接設備使用。
˙90i 為電動型,電動功能包括:
載物台XY移動(選配);
聚焦;
物鏡切換;
螢光濾光器及濾光片切換;
聚光器的孔徑光闌調節;
螢光光閘。
˙80i為手動型。
 


 
 

 
選配數位成像頭及螢光裝置的80i


研究型正立顯微鏡 50i、55i

 

 
50i

 

 

 
55i

˙CFI60無限遠光學系統,筒鏡焦長200mm,物鏡齊焦距離60mm,工作距離最長,數值孔徑最大,螢光影像漂移最小,確保多種染色螢光體的影像重合和真實位置顯示。
˙消雜光螢光機構,螢光信噪比比一般螢光機構提高5倍。
˙可伸縮的載物台手柄,可作高位和低位元操作。移動載物台時,手柄位置不變,尤其方便操作。載物台調焦最小刻度1μm。
˙可選明場、暗場、相差、切趾相差、螢光及偏光觀察方法;55i以明場及螢光觀察方法為佳。
˙可選10X、12.5X及15X目鏡。
˙可配4X、10X、20X、40X、60X和100X物鏡,以及中間放大器作1.25X、1.5X和2X再放大。
˙雙目或三目鏡筒。
˙可配合數位、底片照相裝置及其他外接設備使用。
˙可選配細胞診斷單元作10X和40X快速切換及樣品標記。
˙50i為220V電源供電、鹵燈照明,55i為鋰電池或220V電源供電、二極體照明。後者適用於攜至野外或現場使用。

數位顯微鏡 Coolscope

 

 
加配了顯示器的Coolscope


1.全新概念顯微觀察儀器。綜合顯微放大技術、數位攝影技術和影像分析技術,將樣品顯微放大的同時通過數位攝影和影像處理,直接將樣品的顯微影像顯示在螢幕上。無須通過目鏡觀察樣品,弱視或戴眼鏡均不妨礙觀察,且可長時間觀察而不致疲勞或損害視力。
2.無須手動調節顯微鏡的各個部件。樣品放妥後,自動調節光圈和亮度。載物台定位、聚焦、放大倍數選擇等操作,Mouse一按全部搞定。無論是顯微觀察專家還是新手均可獲得最佳影像。
3.主要性能:
無限遠光路設計;
明場透射觀察,長壽命光電二極體(LED)白光照明;
樣品經5X,10X,20X及40X放大後的影像進入CCD,電動變倍;
2/3",524萬畫素CCD,相當於ISO 260靈敏度;
CCD攝取的影像可在顯視器上作1.4X,2X,2.8X, 4X和16X再放大,或經投影儀任意放大。12位元影像深度;
適應76mm×26mm(長×寬)以下尺寸的各種玻片,載玻片厚度1.2mm以下,0.17或0.18mm蓋玻片校正,可作全局或局部觀察;
自動或手動聚焦;
自動或手動光圈調節;
平均或峰值測光;
影像觀察參數可方便地儲存和調用;
影像輸出:模擬RGB至SXGA(1280×1024)非交錯掃描顯示器。直接接顯示器或投影儀。活動影像最大7.5格/秒(1.3M)或3.75格/秒(5M)。影像大小2560×1920或1280×960。BMP或JPEG相容格式(三種壓縮比可選)。
˙影像儲存:快閃記憶體卡(I型或II型)。
˙介面:USB1.1,直接接USB Mouse或鍵盤、顯示器或投影儀、手動調焦裝置和網路服務器等;
˙外接選配:顯示器或投影儀,USB Mouse,USB鍵盤,手動調焦裝置(使調焦更加精細、準確)。

正立顯微鏡 E200、E200F

 
 


 
E200


˙CFI60無限遠光學系統,筒鏡焦長200mm,物鏡齊焦距離60mm,工作距離最長,數值孔徑最大,螢光影像漂移最小,確保多種染色螢光體的影像重合和真實位置顯示。
可配明場、暗場、相差、螢光和偏光觀察方法。
可選10X或15X目鏡。
4X、10X、20X(選配)、40X、100X物鏡。
雙目或三目鏡筒。
可配合數位、底片照相裝置及其他外接設備使用。
E200F聚光器帶視場光闌,可作柯勒照明,數位及底片照相宜選該型號。

正立顯微鏡 YS100、YS50
 
 


 
YS100


˙CF有限遠光學系統。
˙可選明場、暗場、相差觀察方法。
˙10X或15X目鏡。
˙4X、10X、40X、100X(YS100)物鏡。
˙單目(YS50)、雙目或三目(YS100)鏡筒。
˙可配合數位、底片照相裝置及其他外接設備使用。
˙YS100為6V20W照明,YS50為自然光照明。

電生理專用正立顯微鏡 E600FN

 
 


 
選配三目鏡筒的E600POL


˙特殊的光路設計,配合專用的長工作距離物鏡,40倍和60倍鏡頭的工作距離可達2.00mm,且此鏡頭可以伸入水中或培養基中進行觀察,從而可以在物鏡下作培養皿中的活體觀察和進行顯微操縱。
˙特殊的物鏡轉換器,使物鏡下可以45度角全方位接觸,沒有任何接觸死角或死區。
˙採用上下移動物鏡的聚焦方式,保證在載物台及樣品定位後不必再移動,而是通過移動物鏡來聚焦,即使轉換物鏡後亦可如此。
˙可配置紅外DIC(微分干涉)觀察系統,利用近紅外光觀察一般光線無法觀察的組織、纖維、微管等的內部結構及影像,可達400∼600μm之深。
˙採用外置電源,消除了電磁干擾對電生理等研究的影響;高度的熱穩定性。
˙高度的防震、穩定性能:大面積工作臺;穩固的結構,必要時還可附加防震台;嚴密的防震措施,小至卡位定位的聲響都已消除。
˙E600FN亦具有NIKON CFI60光學系統顯微鏡的各種優越性。最適用於:
1.要求系統高度機械和熱穩定的電生理(膜片鉗)實驗研究。
2.要求40倍以上的高倍、高解析活細胞(即培養皿中樣品)的觀察。
3.需要採用IR-DIC技術觀察組織、血管、纖維等樣品內部結構和影像的研究工作。

偏光顯微鏡 E600POL、E400POL、E200POL

 
 


 
配上防震台和顯微操縱儀的E600FN


˙CFI60無限遠光學系統,筒鏡焦長200mm,物鏡齊焦距離60mm,工作距離最長,數值孔徑最大,螢光影像漂移最小,確保多種染色螢光體的影像重合和真實位置顯示。
˙高精度旋轉載物台。
˙10X目鏡。
˙雙目或三目鏡筒。
˙4X、10X、20X、40X及100X透射偏光物鏡。
˙可配帶5X、10X、20X、50X及100X落射偏光物鏡的反射觀察裝置。


高級研究型倒置顯微鏡 TE2000-E、TE2000-U、TE2000-S
 
 


 
TE2000-E


˙CFI60無限遠光學系統,筒鏡焦長200mm,物鏡齊焦距離60mm,工作距離最長,數值孔徑最大, 螢光影像漂移最小,確保多種染色螢光體的影像重合和真實位置顯示。
˙消雜光螢光機構,螢光信噪比比一般螢光機構提高5倍。
˙可提升的光路結構:物鏡下的光路上除螢光激發光源外,還可同時插入近紅外光源作近紅外DIC和 鐳射光源作全內反射螢光等。
˙可選明場、相差、切趾相差、螢光、霍夫曼調頻相差和微分干涉相差觀察方法。
˙可選10X、12.5X及15X目鏡。
˙可配4X、10X、20X、40X、60X和100X物鏡,TE2000-E 和TE2000-U帶1.5倍中間放大。
˙雙目或三目鏡筒。TE2000-E和TE2000-U帶左、右、前光學出口,TE2000-E還帶底出口,可同時接數位相機、底片相機和鐳射共聚焦。TE2000-S帶左出口。TE2000-U 有左、右、前和底出口的機型。
˙可配合數位、底片照相裝置及其他外接設備使用。
˙TE2000-E為電動型,電動功能包括:
載物台XY移動(選配);
聚焦;
物鏡切換;
螢光濾光器及濾光片切換;
聚光器的孔徑光闌調節;
螢光光閘。
˙TE2000-U和TE2000-S為手動型。

 

 
TE2000-U


 

 
TE2000-S



倒置顯微鏡 TS100、TS100-F
 
 


 
TS100


˙CFI60無限遠光學系統,筒鏡焦長200mm,物鏡齊焦距離60mm,工作距離最長,數值孔徑最大,螢光影像漂移最小,確保多種染色螢光體的影像重合和真實位置顯示。
˙可選配明場、相差、切趾相差、螢光和霍夫曼調頻相差觀察方法。
˙10X或15X目鏡。
˙可配4X、10X、20X和40X物鏡。
˙TS100-F帶三目鏡筒,可接數位相機或底片照相裝置。TS100帶雙目鏡筒。

顯微操縱儀 NT-88NE

 

 
配上了倒置顯微鏡的NT-88NE


˙電動粗調。最大移動速度250um/Sec;最小速度50um/Sec;帶有高低速調節,高速移動時1.6mm/Sec;X-Y-Z三維自由移動。
油壓微調。X-Y-Z三維運動,旋鈕控制最大距離10mm,手柄控制最大距離2mm; 旋鈕250um/圈,最小刻度2.5um (100個刻度/圈);三維自由移動;液壓油可壓縮性小,啟停準確;油的熱穩定性大,漂移極小。
˙可配雙針夾持器(for PGD)和油壓四維控制器(For Gene Transter)。
˙持針器三維獨立調節,角度0∼90o可調。
˙樣品注射器。最大移動距離53mm,500um/圈;
最小刻度10um;10ul/圈,最小刻度0.2ul。
樣品夾持注射器。最大移動距離53mm,6mm/圈;最小刻度120um;480ul/圈,最小刻度9.6ul。
可改配較經濟的手動粗調。
另有適用于電生理的水壓顯微操縱儀。

可選配微針製備裝置,包括

˙水準拉針儀PN-30或垂直拉針儀PC-10
˙顯微磨針儀EG400或目視磨針儀EG-44
˙顯微彎針儀MF-900


高級研究型體視顯微鏡 SMZ1500、SMZ1000、SMZ800
 

 
SMZ1500


˙平行光路。變焦範圍和1X物鏡時的工作距離分別為:
SMZ1500:0.75-11.25X,54mm;
SMZ1000:0.8-8X,78mm(平場物鏡)或70mm(平場複消色差物鏡);
SMZ800:1-6.3X,78mm(平場物鏡)或70mm(平場複消色差物鏡)。
˙10X、15X、20X或30X目鏡。
˙可配0.5X、1X、1.5X、2.0X平場或平場複消色差物鏡。
˙可配單照相出口或雙照相出口分光器,以便接底片或/和數位照相裝置。
˙反射底座、明場透射底座或明/暗場透射底座等。
˙一般光源、冷光源(活體觀察)、環形光源或同軸光源(照相最佳)。
˙可選落射螢光觀察。
 
 


 
SMZ800/SMZ1000


體視顯微鏡 SMZ645、SMZ660
 


 
 

 
SMZ660/SMZ645


˙變焦範圍0.8-5X,工作距離115mm。
˙10X、15X、20X或30X目鏡。
˙可配0.5X、0.7X、1.5X或2X輔助物鏡。
˙反射底座、明場透射底座或明/暗場透射底座等。
˙一般光源、冷光源(活體觀察)、環形光源或同軸光源(照相最佳)。
˙SMZ645為45°視角,SMZ660為60°視角。

底片、數位照相裝置及顯微影像分析軟體

一、顯微底片照相裝置
˙U-Ⅲ:0.1%、1%點測光及35%面測光,適用於極弱螢光及各種顯微照相。

 
 




˙H-Ⅲ:1%點測光及35%面測光,適用於弱螢光及各種顯微照相。

 



˙P-Ⅲ: 面測光,適用於各種顯微照相。

 
 



U-Ⅲ、H-Ⅲ、P-Ⅲ顯微底片照相裝置帶5X照相物鏡,可選取景區與目鏡視場大小更接近的 2.5X或4X照相物鏡。
另有單眼底片相機,用於TE200E和TE2000-U的前出口。

二、顯微數位照相裝置

 
 


 
DXM1200F


˙DXM1200F高解析度螢光數位照相裝置
2/3英寸CCD,1200萬影像畫素,曝光時間1/2000至170秒,最快12格/秒,適用於弱螢光及高解析度影像拍攝,用電腦操作
˙DS-5Mc高解析度冷CCD數位照相裝置
2/3英寸冷CCD,冷卻溫度為室溫以下20℃,524萬CCD畫素, 曝光時間1/1000至600秒,最快15格/秒,適用於低亮度影像及極弱螢光的長時間曝光拍攝。
接DS-U1控制器構成DS-5Mc-U1顯微數位照相系統,接電腦操作。可作間隔為5秒至12小時的連續自動拍攝。
˙接DS-L1控制器構成DS-5Mc-L1顯微數位照相系統,DS-L1帶6.3英寸LCD顯示器(1024×768)及控制功能,直接操作DS-5Mc 並顯示影像。可作間隔為10秒至6小時的自動連續拍攝。
˙DS-5M高解析度數位照相裝置
除不製冷外,與DS-5Mc基本相同。即:
2/3英寸CCD,524萬CCD畫素,曝光時間1/1000至60秒,最快15格/秒,適用於低亮度影像及弱螢光拍攝。
接DS-U1控制器構成DS-5M-U1顯微數位照相系統,接電腦操作。可作間隔為5秒至12小時的連續自動拍攝。
接DS-L1控制器構成DS-5M-L1顯微數位照相系統,DS-L1帶6.3英寸LCD顯示器(1024×768)及控制功能,直接操作DS-5M並顯示影像。可作間隔為10秒至6小時的自動連續拍攝。
˙Coolpix 5400數位相機
1/1.8英寸CCD,526萬畫素,曝光時間1/8000秒至10分鐘,最快15格/秒。本機控制,可連 接電腦。

三、顯微影像分析軟體
˙Eclipse Net,影像採集、處理、測量、分析,控制DXM1200F及DS-5Mc-L1或DM-5M-L1接電腦時。
˙ACT-2U,影像採集、處理、測量、分析,控制DS-5Mc-U1及DS-5M-U1。
˙ACT-L1,DS-5Mc-L1和DS-5M-L1接電腦時的控制軟體。

鐳射共聚焦系統 Digital Eclipse C1

 
 


 
配倒置顯微鏡的C1


˙兩個或三個鐳射通道。可加配透射通道,除鐳射共聚焦影像觀察外,顯微鏡仍可作透射觀察,如 DIC觀察。
˙四種鐳射通道組合:488/543;488/594;408/488/543;488/543/633。
˙四檔鐳射強度控制。
˙雷射器獨立電動快門。
˙可微調針孔,三檔大小及電動全開。
˙掃描速度:512×512/秒、500L/Sec。
˙可作點、帶、面掃描。
˙1∼10X連續變倍。
˙12 bits影像深度, 高解析度、高畫質晰度、高對比度影像。
˙三個通道可同時達到2048x2048的解析力。
˙Z軸最小可讀性100nm。
˙三個獨立光電倍增器。
˙有鐳射共聚焦專用60x平場複消色差油鏡,WD0.21mm, 數值孔徑1.40。
˙MIP (Microscope Imaging Platform)聚光共聚焦控制及影像分析軟體。

 

 發布時間:2008年5月9日

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